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幸会幸会后面接什么有趣,高情商回复幸会 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知(zhī)识产权局局长申(shēn)长雨在新(xīn)闻发布(bù)会上表(biǎo)示,将(jiāng)统(tǒng)筹推(tuī)进各类知(zhī)识产权法律法规和制度规(guī)则(zé)的制修订工作(zuò)。其中(zhōng),幸会幸会后面接什么有趣,高情商回复幸会修改(gǎi)完善集(jí)成电路布图(tú)设计保护条例,适应大(dà)规模集(jí)成电路发(fā)展(zhǎn)需要,助力芯(xīn)片产业做大做强,服务数字(zì)经济更好发展。

  加强大数据(jù)、人工智能、基因技术等新领域(yù)新业(yè)态(tài)知识产权(quán)规则研究,助力(lì)相(xiāng)关领域(yù)创新发展。同时,积极(jí)参与知识产权国(guó)际规则制定,更(gèng)好对接高标准国(guó)际经贸(mào)规则,助力高水平(píng)对(duì)外开放。

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