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亲爱的让你㖭我下黑

亲爱的让你㖭我下黑 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日消息,国家知识产(chǎn)权局局长申长雨在新闻发布会(huì)上(shàng)表示(shì),将(jiāng)统筹推进(jìn)各类(lèi)知识产权法律法规和(hé)制(zhì)度规则的制修订(dìng)工作。其中,修改完(wán)善集成电路布(bù)图设计保护条(tiáo)例,适应大规(guī)模集成电路(lù)发展需(xū)要,助力芯片产业(yè)做大做(zuò)强,服务数字经济更(gèng)好发展。

 亲爱的让你㖭我下黑 加强(qiáng)大数(shù)据、人工(gōng)智能(néng)、基(jī)因技术等(děng)新领域(yù)新业态(tài)知识产(chǎn)权规则(zé)研究(jiū),助力相关(guān)领域创新发展。同(tóng)时,积(jī)极参(cān)与知(zhī)识产(chǎn)权国际(jì)规则制(zhì)定,更好(hǎo)对接高标(biāo)准国(guó)际经(jīng)贸规则(zé),助力高水平对(duì)外开放。

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