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相遇时间的公式 相遇时间怎么求 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产(chǎn)权局局(jú)长(zhǎng)申长(zhǎng)雨(yǔ)在新闻发(fā)布会上表示,将统筹推(tuī)进各(gè)类知识(shí)产(chǎn)权法律法规和制度规(guī)则(zé)的制修订(dìng)工作。其(qí)中,修改完善(shàn)集成电(diàn)路(lù)布图设计保护(相遇时间的公式 相遇时间怎么求hù)条(tiáo)例,适应大规模集(jí)成电(diàn)路发(fā)展(zhǎn)需要(yào),助力(lì)芯片产(chǎn)业做大做强,服务数字经济(jì)更(gèng)好发展。

  加强(qiáng)大数据、人工智(zhì)能、基因技术等新领(lǐng)域新业态知识产权规则研(yán)究(jiū),助力相关领域(yù)创新发(fā)展。同时,积极(jí)参(cān)与知识产权国(guó)际规则制定(dìng),更好(hǎo)对(duì)接高标(biāo)准国(guó)际经贸规则,助力(lì)高(gāo)水平对外开放。

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