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　　美光公(gōng)司(sī)在华销售的(de)产品未(wèi)通过(guò)网络安全审(shěn)查

　　据(jù)网信办消息，日前(qián)，网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查办(bàn)公(gōng)室依法对(duì)美光(guāng)公司在华(huá)销售产品(pǐn)进行了网络安全审查。

　　审查发现(xiàn)，美光公司产(chǎn)品存在较严(yán)重网络(luò)安全问题隐患，对(duì)我(wǒ)国关键信息基础设(shè)施供应链造成重大安全风险，影响我国国家安全。为此，网络安全审查办公(gōng)室依法作出不(bù)予通过网(wǎng)络安全审(shěn)查的结论。按照《网络安全法(fǎ)》等法(fǎ)律(lǜ)法(fǎ)规，我国(guó)内关键(jiàn)信(xìn)息基础设施的(de)运营者应停止采购美光公(gōng)司产品。

　　此次对(duì)美光(guāng)公司(sī)产品进行网络安全审查，目的是防(fáng)范产品(pǐn)网络安全问题危害国家关(guān)键信息基础设施安全，是维护(hù)国家安全(quán)的必要措施(shī)。中(zhōng)国坚定推进高水(shuǐ)平对外开(kāi)放(fàng)，只要遵守中国法律法规要求，欢迎各国企业、各类平台产品(pǐn)服(fú)务进(jìn)入(rù)中国市场。

　　3月31日，中国网信网(wǎng)发文称，为(wèi)保障(zhàng)关键信息基(jī)础设(shè)施供(gōng)应链安全(quán)，防范产品问(wèn)题隐患造成(chéng)网络安全风险，维护国家安全，依据《中华人民共和国(guó)国家安(ān)全(quán)法》《中华(huá)人民(mín)共和国(guó)网络(luò)安(ān)全法》，网(wǎng)络安全审查办公室按照《网络安全(quán)审查(chá)办(bàn)法》，对美光公司（Micron）在华销售的产品实施(shī)网络安全审查。

　　美光是美国的(de)存储(chǔ)芯下午5点到6点是什么时辰 下午5点到6点是什么生肖片行业龙头，也是(shì)全球存储芯(xīn)片巨头之一，2022年收入来(lái)自中国市场收入(rù)从此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨(zī)询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三星(xīng)电子、 铠侠、西部数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全(quán)球(qiú) NAND Flash （闪存）市场份额(é)约为(wèi) 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美(měi)光(guāng)在全球 DRAM （内存）市场份(fèn)额约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公司中，江(jiāng)波龙、佰维存储等公(gōng)司披露过美(měi)光等国际存(cún)储厂商为公司供应商。

　　美光在江波龙(lóng)采购占比已(yǐ)经(jīng)显著(zhù)下降，至(zhì)少已经(jīng)不是主要大供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年美光(guāng)位(wèi)列江波龙(lóng)第(dì)一大(dà)存储晶圆(yuán)供应商，采购(gòu)约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三大供应(yīng)商(shāng)采(cǎi)购金额占比分别是(shì)26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经在存储产业链上下游建(jiàn)立国内(nèi)外广(guǎng)泛合作。2022年(nián)年报显(xiǎn)示，江波龙与三星、美光、西部数(shù)据等主要(yào)存储晶(jīng)圆原(yuán)厂(chǎng)签署了长期(qī)合(hé)约(yuē)，确(què)保存储晶圆供应(yīng)的稳定性，巩固公司在下游(yóu)市场的供应优势，公司也(yě)与国内国产存储晶圆原厂武汉长江(jiāng)存储、合肥长鑫保持良好(hǎo)的合作。

　　有券(quàn)商此前就分析，如果(guǒ)美光在中(zhōng)国区销(xiāo)售(shòu)受到限(xiàn)制，或将导(dǎo)致(zhì)下游客(kè)户转而采购国外(wài)三星、 SK海力士(shì)，国内(nèi)长江存储、长鑫存储等竞(jìng)对产品

　　分析(xī)称，长存、长鑫的(de)上游(yóu)设备厂或从中受益。存储(chǔ)器(qì)的生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时(shí)代，2 维下午5点到6点是什么时辰 下午5点到6点是什么生肖(wéi)到3维(wéi)的结构转变(biàn)使刻蚀(shí)和薄(báo)膜成为(wèi)最关键、最大(dà)量的加工(gōng)设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄(báo)膜沉积(jī)工艺(yì)步(bù)骤，同时(shí)刻(kè)蚀目前前沿要刻到 60：1的深(shēn)孔，未(wèi)来可能会(huì)更深的孔(kǒng)或者沟(gōu)槽，催生更多设备需求(qiú)。据(jù)东京电子(zi)披露，薄膜沉积设备及刻蚀(shí)占(zhàn)3D NAND产线资本(běn)开支合计为75％。自(zì)长江存储被(bèi)加入(rù)美国限制名单，设备国产化进程加速，看好拓荆科技（薄膜(mó)沉积）等相关公司(sī)份额提升，以及存储业务占比(bǐ)较高的(de)华海清科(kē)（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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