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　　美光公司在华销售的产品未通过网(wǎng)络安全(quán)审查

　　据网信办消息(xī)，日前，网络(luò)安全审(shěn)查(chá)办公室依法(fǎ)对美光(guāng)公(gōng)司在华销(xiāo)售产品进行了网络安全审(shěn)查。

　　审(shěn)查发现，美光公司产品存在较(jiào)严重网络安全(quán)问题隐(yǐn)患，对我国关键信息基础设(shè)施供应链造成重(zhòng)大安全风险，影(yǐng)响我国国家安(ān)全(quán)。为此，网络安全审(shěn)查办公室依法作出不(bù)予通(tōng)过(guò)网络安全审查的(de)结论。按照(zhào)《网(wǎng)络安全法(fǎ)》等法律法规，我国(guó)内关键信息基(jī)础设(shè)施的(de)运营(yíng)者应停止(zhǐ)采购(gòu)美光(guāng)公司产品(pǐn)。

　　此次对美(měi)光公司(sī)产(chǎn)品进(jìn)行(xíng)网络安全审查，目的是防范产品网络安全问题危害国(guó)家(jiā)关键信息基础设施安(ān)全，是维护国家安全(quán)的必要措施(shī)。中(zhōng)国坚定推进高水平对外开放，只(zhǐ)要(yào)遵(zūn)守(shǒu)中(zhōng)国法律法规要求，欢迎各(gè)国企业(yè)、各类(lèi)平台(tái)产品服务(wù)进入中(zhōng)国市场。

化妆品条码697开头是什么成分，条形码697开头代表什么标准　　3月31日，中(zhōng)国网信网发(fā)文称，为保(bǎo)障关键信息(xī)基础设施供应链安(ān)全(quán)，防(fáng)范产品问题隐患造(zào)成网(wǎng)络安全风(fēng)险，维护国家安全，依据《中华(huá)人民共(gòng)和(hé)国国家安全法》《中(zhōng)华人民共和国网络安全法》，网络安全(quán)审(shěn)查办公(gōng)室按照《网络安全审查办法》，对美光公司（Micron）在华销售的(de)产品实施网络安全审查。

　　美光是美国(guó)的存储(chǔ)芯片行(xíng)业龙头(tóu)，也是全球存储芯片(piàn)巨头之一(yī)，2022年收(shōu)入来(lái)自(zì)中国(guó)市场收入从此前(qián)高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星电子、 铠侠(xiá)、西部(bù)数据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash （闪存）市场份(fèn)额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存(cún)）市(shì)场份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上(shàng)市(shì)公司中(zhōng)，江波龙、佰维(wéi)存(cún)储等公司披露过美光等国际存储厂商为公司供应(yīng)商。

　　美光(guāng)在江(jiāng)波龙采(cǎi)购占比已(yǐ)经显著下降，至少已经(jīng)不是主要(yào)大供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年美光位列江(jiāng)波龙第一大存储晶圆供应(yīng)商，采(cǎi)购约31亿元，占(zhàn)比(bǐ)33.52％；2022年(nián)，江波龙第一大、第二(èr)大和(hé)第三大供应商采购金额占比分别(bié)是26化妆品条码697开头是什么成分，条形码697开头代表什么标准.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经(jīng)在存储产(chǎn)业链上下游建立国内外广泛合作(zuò)。2022年(nián)年报显(xiǎn)示，江(jiāng)波龙与三星、美(měi)光、西部数据等主要存储晶圆原厂签署了长期合约(yuē)，确保存储(chǔ)晶圆供应的(de)稳定性，巩固公(gōng)司在下(xià)游市场的供应(yīng)优(yōu)势，公司也与国内(nèi)国产存储晶圆(yuán)原厂(chǎng)武汉(hàn)长(zhǎng)江存储(chǔ)、合肥长鑫保(bǎo)持良好的合作。

　　有券商此(cǐ)前就分析，如果美光在中(zhōng)国区(qū)销售受(shòu)到限制，或将导致下游客户(hù)转而采购国外三星、 SK海力士，国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对(duì)产品(pǐn)

　　分析称，长存(cún)、长(zhǎng)鑫的上游设备(bèi)厂或从中(zhōng)受益。存储器的生产已经演(yǎn)进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺(yì)。另外NAND Flash现在(zài)已经(jīng)进入3D NAND时代，2 维到3维的结构转(zhuǎn)变使刻蚀和薄膜成为(wèi)最关键、最大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过(guò)薄(báo)膜沉积工艺步骤，同(tóng)时刻(kè)蚀目前前沿要刻到(dào) 60：1的深孔，未(wèi)来(lái)可(kě)能会更深的孔或者沟槽，催生(shēng)更(gèng)多设(shè)备需求。据东京电子披露，薄膜(mó)沉积设备及刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资(zī)本开支合计为75％。自长江存储(chǔ)被加入美国限制名(míng)单，设(shè)备国产化(huà)进程加(jiā)速(sù)，看好(hǎo)拓荆科技（薄膜沉积）等(děng)相关公(gōng)司份额提升，以(yǐ)及存储业(yè)务占比(bǐ)较高的华海清科（CMP）、盛美上海(hǎi)（清(qīng)洗）等收入增长。

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